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研究了预热处理温度、时间以及沉积纳米氧化铝膜对低压铝箔化成比电容的影响。结果表明,铝箔沉积纳米氧化铝膜并进行适当热处理,在20V电压化成后铝箔的比电容比传统化成和预热处理后进行化成的比电容有显著提高,最大比电容提高幅度近30%,形成时间降低90%以上。
预热处理和纳米氧化铝膜对低压铝箔化成比电容的影响
【摘 要】
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研究了预热处理温度、时间以及沉积纳米氧化铝膜对低压铝箔化成比电容的影响。结果表明,铝箔沉积纳米氧化铝膜并进行适当热处理,在20V电压化成后铝箔的比电容比传统化成和预
【机 构】
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北京科技大学,北京科技大学
【出 处】
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金属热处理
【发表日期】
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2005年09期
【基金项目】
：
国家科技部863项目(2003AA32X170)
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