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本文主要叙述薄膜集成电路所用的钼金属空花掩模的制备。简述了制备工艺流程,阐明了用硝酸、磷酸、醋酸的混合液选择性化学腐蚀的机理,讨论了化学腐蚀的主要影响因素,从而制定了腐蚀液的最佳配方和腐蚀的工艺条件。
钼金属掩模的选择性化学腐蚀
【摘 要】
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本文主要叙述薄膜集成电路所用的钼金属空花掩模的制备。简述了制备工艺流程,阐明了用硝酸、磷酸、醋酸的混合液选择性化学腐蚀的机理,讨论了化学腐蚀的主要影响因素,从而制
【机 构】
：
国营七一五厂
【出 处】
：
电子元件与材料
【发表日期】
：
1991年1期
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