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采用射频磁控溅射技术,在康宁玻璃衬底上制备了从0.12Pa到1.0Pa共计5个不同溅射气压系列的ZnO:Al(AZO)薄膜样品,通过紫外-可见光谱仪、四探针、台阶仪等测试手段研究了薄膜的晶体结构、光学和电学性能,结果表明,溅射气压对薄膜的结晶质量、光学和电学性能影响较大,在0.12Pa气压条件下制备的薄膜具有最优的光电特性。