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随着VLSI器件特征尺寸的缩小,对互连集成技术提出了新的要求.铜作为新的互连线材料,能够有效地减小互连延时,提高互连性能.论述了铜互连技术中低k介质材料、势垒层材料以及铜互连布线的大马士革工艺.提出当通孔倾斜角为20°、Ta为势垒材料时,能够有效地改善铜互连技术的势垒性能,并且提高其可靠性.
超深亚微米集成电路的铜互连技术布线工艺与可靠性
【摘 要】
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随着VLSI器件特征尺寸的缩小,对互连集成技术提出了新的要求.铜作为新的互连线材料,能够有效地减小互连延时,提高互连性能.论述了铜互连技术中低k介质材料、势垒层材料以及铜
【机 构】
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西安电子科技大学微电子研究所
【出 处】
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西安电子科技大学学报
【发表日期】
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2005年1期
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