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盛美推出应用于大功率半导体器件制造的新款薄片清洗设备
盛美推出应用于大功率半导体器件制造的新款薄片清洗设备
来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户:mt156
【摘 要】
:
盛美半导体设备,近日推出了新款薄型晶圆清洗系统。这是一款高产能的四腔系统,可应用于单晶圆湿法工艺,包括清洗、蚀刻、去胶和表面湿法减薄。
【出 处】
:
电子工业专用设备
【发表日期】
:
2020年5期
【关键词】
:
半导体设备
清洗设备
湿法工艺
盛美
大功率半导体器件
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盛美半导体设备,近日推出了新款薄型晶圆清洗系统。这是一款高产能的四腔系统,可应用于单晶圆湿法工艺,包括清洗、蚀刻、去胶和表面湿法减薄。
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