【摘 要】
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台面腐蚀设备用于半导体工艺中对硅片周边进行湿法化学腐蚀形成均匀一致的斜角,技术先进,产品一致性强,适用于规模生产。该设备由五大部分组成:清洗槽部分、伺服系统及机械
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台面腐蚀设备用于半导体工艺中对硅片周边进行湿法化学腐蚀形成均匀一致的斜角,技术先进,产品一致性强,适用于规模生产。该设备由五大部分组成:清洗槽部分、伺服系统及机械臂部分、层流净化系统、电气控制系统、机架及整机。清洗槽部分由有机溶剂槽、去离子水
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