【摘 要】
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Method of Molecular Beam Epitaxy (MBE) is based on the growth of semiconductor layers by effusion source components evaporation under ultrahigh vacuum (10～11 Tor
【机 构】
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',SemiconductorTechnologiesandEquipment',JSC
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Method of Molecular Beam Epitaxy (MBE) is based on the growth of semiconductor layers by effusion source components evaporation under ultrahigh vacuum (10～11 Torr), so the flow of growth components in space occurs in the molecular beam mode. To ensure UHV
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