【摘 要】
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用Ｘ射线光电子谱（ＸＰＳ），原子力显微镜（ＡＦＭ）和Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）研究了磁控溅射制备的氧化钒薄膜的宏观、微观和电子学结构．建立了薄膜的相结构与ＸＰＳ谱中Ｖ２ｐ３／２特征峰的结合能之间的定量关系．给出了二氧化钒薄膜
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用Ｘ射线光电子谱（ＸＰＳ），原子力显微镜（ＡＦＭ）和Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）研究了磁控溅射制备的氧化钒薄膜的宏观、微观和电子学结构．建立了薄膜的相结构与ＸＰＳ谱中Ｖ２ｐ３／２特征峰的结合能之间的定量关系．给出了二氧化钒薄膜的ＡＦＭ像．所得到的二氧化钒热致变色薄膜的结构特性与光电特性相一致．
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