【摘 要】
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＜正＞集成电路是现代工业的基础。光刻机是集成电路制造的核心装备,其技术水平决定了集成电路的集成度。几十年来,光刻机曝光波长从436 nm可见光波段减小到193 nm深紫外波段,再到目前最短的13.5nm极紫外波段。投影物镜的数值孔径从初期的0.28增大到干式光刻机的0.93,再到浸液式光刻机的1.35。利用光学邻近效应校正、光源掩模联合优化、多重图形等分辨率增强技术,光刻工艺因子已突破理论极限。光
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＜正＞集成电路是现代工业的基础。光刻机是集成电路制造的核心装备,其技术水平决定了集成电路的集成度。几十年来,光刻机曝光波长从436 nm可见光波段减小到193 nm深紫外波段,再到目前最短的13.5nm极紫外波段。投影物镜的数值孔径从初期的0.28增大到干式光刻机的0.93,再到浸液式光刻机的1.35。利用光学邻近效应校正、光源掩模联合优化、多重图形等分辨率增强技术,光刻工艺因子已突破理论极限。光刻机技术与光刻技术的不断进步,支撑着集成电路不断向更小技术节点发展。不断涌现的新技术、新工艺、新材料、新设备使得光刻技术水平不断提升,集成电路特征尺寸不断减小,目前已逼近尺寸微缩的物理极限。
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