GaAs体效应器件中阴极深凹槽掺杂分布引起的静止畴的电场的计算分析

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:w198911154
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本文讨论了GaAs体效应器件中阴极深凹槽掺杂分布引起的静止畴的电场分布,指出掺杂浓度、有源区长度、扩散系数及外加偏压对电场分布的影响,并与通常的Gunn器件的三角形畴模式进行了比较. In this paper, we discuss the electric field distribution of quiescent domains caused by the doping of cathode deep grooves in GaAs body effect devices. The effects of doping concentration, active region length, diffusion coefficient and applied bias on electric field distribution are discussed. The triangular domain modes of the device are compared.
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