【摘 要】
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采用非平衡磁控溅射离子镀技术在YG6硬质合金表面沉积TiAlN薄膜,研究Al靶的溅射电流对TixAl1-xN薄膜组织结构与性能的影响。利用X线衍射仪、扫描电子显微镜和显微硬度仪等分
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采用非平衡磁控溅射离子镀技术在YG6硬质合金表面沉积TiAlN薄膜,研究Al靶的溅射电流对TixAl1-xN薄膜组织结构与性能的影响。利用X线衍射仪、扫描电子显微镜和显微硬度仪等分析仪器对制备的TixAl1-xN薄膜的相结构、表面形貌和显微硬度进行测试分析。测试结果表明：膜层中存在Ti3AlN、AlN相,且Ti3AlN沿（220）晶面择优取向。SEM测试表明,随Al靶功率的提高,膜层晶粒结构变得更致密。显微硬度仪测得薄膜平均硬度最高可达2 980 HV。
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