激光熔覆Ni35+11%WC涂层的参数优化设计

来源 :激光与光电子学进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dongwujunye
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为了研究激光熔覆Ni35+11%WC熔覆层的最优工艺参数。采用单因素控制法,以激光功率、送粉量、扫描速度作为控制变量,熔覆层的稀释率、高度和宽度最为参考指标,进行单因素和正交极差分析。研究结果表明:通过正交极差分析工艺参数对参考指标影响,发现主要因素与次要因素是送粉量>扫描速度>激光功率,单因素和正交分析得到最优参数都是激光功率1500 W,送粉量2r/min,扫描速度4mm/s。熔覆层的硬度是710HV左右;熔覆层的tafel曲线正向偏移,自腐蚀电位为-0.72V,自腐蚀电流密度为0.96A/m2。结论是最优参数的熔覆层的硬度高,组织均匀,耐腐蚀性强。
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