【摘 要】
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<正> 1 无尘化问题的提出 九十年代半导体处于超大规模集成电路(VLSI)向特大规模集成电路(ULSI)过渡阶段。在此阶段中芯片加工有两大特点,一是加工条宽越来越细,1989年初日本
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<正> 1 无尘化问题的提出 九十年代半导体处于超大规模集成电路(VLSI)向特大规模集成电路(ULSI)过渡阶段。在此阶段中芯片加工有两大特点,一是加工条宽越来越细,1989年初日本东芝、日电、三菱、NTT、富士通等公司相继研制成功16MDRAM,最小条宽0.4~0.6μm,日本通产省电子工业中期恳谈会报告书预测,九十年代中期可达64MDRAM,最小条宽为0.3~0.4μm,2000年可达1GDRAM,最小条宽为
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