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组分元素和杂质在多层薄膜样品中深度分布的SIMS剖析结果总是编离其真实的分布情况,这是由一次离子溅射样品时的物理过程以及溅射坑底的不平整所造成的。轰击离子在样吕内所引起的混合效应,以及坑底的不平整导致了某一时刻的二次离子来自样品中的不同深度。因此,为了提高SIMS分析的深度分辨率,必须注意克服这两种影响因素。