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SIMS在半导体分离器件剖析中的应用
SIMS在半导体分离器件剖析中的应用
来源 :质谱学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jjjjjj8610
【摘 要】
:
本文介绍SIMS技术在半导体分离器件剖析中的应用。通过深度分布分析,取得了晶体管有源区表面金属化层和内部掺杂层的深度分布曲线,据此获得晶体管试制的重要工艺参数——基区
【作 者】
:
赵梦璧
【机 构】
:
中国华晶电子集团公司无锡
【出 处】
:
质谱学报
【发表日期】
:
1992年2期
【关键词】
:
SIMS
晶体管
深度分布
基区
结深
SIMS
transistor
depth profiles
base area
junction depth
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本文介绍SIMS技术在半导体分离器件剖析中的应用。通过深度分布分析,取得了晶体管有源区表面金属化层和内部掺杂层的深度分布曲线,据此获得晶体管试制的重要工艺参数——基区掺杂表面浓度值及其结深值。文中还讨论了一些存在问题。
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