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使用EBSD取向成像技术分析了铜丝键合不同工艺阶段(原始拉拔丝、熔化自由球、第一点球键合、第二点楔形键合)的组织不均匀性及微织构。讨论了它们可能对性能的影响.
微电子封装铜线键合的组织与微织构
【摘 要】
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使用EBSD取向成像技术分析了铜丝键合不同工艺阶段(原始拉拔丝、熔化自由球、第一点球键合、第二点楔形键合)的组织不均匀性及微织构。讨论了它们可能对性能的影响.
【机 构】
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北京科技大学材料学院,100083香港ASM封装自动化公司,香港
【出 处】
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第二届全国电子背散射衍射技术及其应用会议
【发表日期】
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2007年8期
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