论文部分内容阅读
本文尝试采用微波等离子体CVD技术，实现金刚石膜的制备以及金刚石膜表面的氨等离子体处理，实现氨基功能化修饰金刚石膜的制备。通过扫描电子显微镜（SEM）、拉曼光谱（Raman）、X射线光电子能谱（XPS）以及水接触角等对氨等离子体处理前后的金刚石膜进行检测分析。结果表明，采用微波等离子体CVD技术，可以在金刚石膜表面植入氨基实现功能化修饰，从而提高金刚石膜表面活性。同时，金刚石膜的整体品质未出现显著变化。