【摘 要】
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本文用脉冲激光溅射沉积法(PLD)在LaAlO3(100)基片上外延生长YBa2Cu3O7-δ掺锆酸钡(BZO)薄膜.用X射线衍射、透射电镜对薄膜结构进行分析.探索PLD沉积的最佳实验参数,最佳沉积
【机 构】
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南昌大学材料系,江西师范大学物理与通信电子学院,
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本文用脉冲激光溅射沉积法(PLD)在LaAlO3(100)基片上外延生长YBa2Cu3O7-δ掺锆酸钡(BZO)薄膜.用X射线衍射、透射电镜对薄膜结构进行分析.探索PLD沉积的最佳实验参数,最佳沉积温度为800℃,最佳氧分压为25Pa,最佳沉积频率为3Hz.
In this paper, YBa2Cu3O7-δ barium zirconate titanate (BZO) thin film was epitaxially grown on LaAlO3 (100) substrate by pulsed laser deposition (PLD) method.The structure of thin films was analyzed by X-ray diffraction and transmission electron microscopy The optimum experimental parameters are as follows: the optimum deposition temperature is 800 ℃, the optimum oxygen partial pressure is 25Pa and the optimum deposition frequency is 3Hz.
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