【摘 要】
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采用氨基-过硫酸盐氧化还原引发体系,先实现了甲基丙烯酸羟乙酯(HEMA)在微米级硅胶微粒表面的引发接枝聚合,制得高接枝度的接枝微粒PHEMA/SiO2.然后使接枝大分子PHEMA的侧羟
【机 构】
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中北大学化学工程系,北京有色金属研究总院,
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采用氨基-过硫酸盐氧化还原引发体系,先实现了甲基丙烯酸羟乙酯(HEMA)在微米级硅胶微粒表面的引发接枝聚合,制得高接枝度的接枝微粒PHEMA/SiO2.然后使接枝大分子PHEMA的侧羟基与5-氯-8-羟基喹啉(CHQ)发生亲核取代反应,将8-羟基喹啉(HQ)基团键合在接枝大分子侧链,使接枝大分子PHEMA实现8-羟基喹啉功能化转变,制得表面含有高密度HQ基团的功能接枝微粒HQ-PHEMA/SiO2,考察研究了功能微粒HQ-PHEMA/SiO2对Cd2+离子的强螯合吸附作用.在此基础上,采用本课题组建立的新的分子表面印迹技术,以Cd2+离子为模板离子,二氯乙醚为交联剂,对接枝在硅胶表面的功能大分子链HQ-PHEMA进行了离子印迹,制备了Cd2+离子表面印迹材料IIP-HQP/SiO2,深入考察研究了其离子识别与结合特性.实验结果表明,该离子表面印迹材料对Cd2+离子具有特异的识别选择性与优良的结合亲和性,相对于Cu2+和Pb2+两种对比离子,印迹材料IIP-HQP/SiO2对Cd2+离子的识别选择性系数分别高达25.52和22.91,显示出超高的离子识别能力.
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