【摘 要】
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采用射频磁控溅射技术在玻璃衬底生长ZnO及ZnO∶Al薄膜,通过改变氩氧比、衬底温度和溅射功率获得样品。用X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计、扫描电子显微镜进行表征。结果
【机 构】
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景德镇陶瓷学院机电学院,景德镇陶瓷学院科技艺术学院
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采用射频磁控溅射技术在玻璃衬底生长ZnO及ZnO∶Al薄膜,通过改变氩氧比、衬底温度和溅射功率获得样品。用X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计、扫描电子显微镜进行表征。结果发现：室温下40 W的溅射功率1 h的溅射时间,改变氩氧比获得样品。XRD图谱中无明显衍射峰出现;紫外可见光分光光度计测试结果显示400 nm波长以下,透光率在90%以上。说明薄膜生长呈无定形。衬底温度高于200℃样品,XRD有明显（002）衍射峰出现,在400～800 nm波长范围,透光率在88%以上,衬底温度300℃时,XRD衍射峰半
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