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利用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）法，在不同的温度下制备了氟化非晶碳膜。采用原子力显微镜（AFM）、X射线光电子能谱（XPS）和傅里叶红外吸收光谱（FTIR）等仪器对薄膜微结构进行了表征。研究发现，氟化非晶碳膜微观结构与薄膜生长过程温度控制密切相关，温度升高，膜内键合结构变化，sp^2相对含量增加。