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CH4离子束增强沉积对TiC薄膜显微硬度的影响机制
CH4离子束增强沉积对TiC薄膜显微硬度的影响机制
来源 :金属学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lingyuehqu2009
【摘 要】
:
研究了双离子束沉积TiC薄膜的形成,离子束反应溅射膜的显微硬度比CH4离子束增强沉积膜的显微硬度高,XPS,TEM和TES分析表明后者硬度低的一个重要原因是CH4离子束轰击引入过量的自由碳原子。
【作 者】
:
刘长洪
李文治
【机 构】
:
清华大学
【出 处】
:
金属学报
【发表日期】
:
1994年7期
【关键词】
:
碳化钛薄膜
离子束沉积
硬度
TiC film
ion beam enhanced deposition
hardness
【基金项目】
:
国家自然科学基金,国家科委八六三项目
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研究了双离子束沉积TiC薄膜的形成,离子束反应溅射膜的显微硬度比CH4离子束增强沉积膜的显微硬度高,XPS,TEM和TES分析表明后者硬度低的一个重要原因是CH4离子束轰击引入过量的自由碳原子。
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