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金属基体上硬质薄膜内应力的释放测量法
金属基体上硬质薄膜内应力的释放测量法
来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fmwksf
【摘 要】
:
提出了一种基于Stoney公式测量金属基体上硬质薄膜内应力的应力释放法,并研究了不同基底温度对磁控溅射TiN薄膜内应力的影响。
【作 者】
:
黄碧龙
吴莹
戴嘉维
李戈扬
【机 构】
:
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
【出 处】
:
真空科学与技术学报
【发表日期】
:
2007年6期
【关键词】
:
硬质薄膜
内应力
Hard thin film
Internal stress
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提出了一种基于Stoney公式测量金属基体上硬质薄膜内应力的应力释放法,并研究了不同基底温度对磁控溅射TiN薄膜内应力的影响。
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