【摘 要】
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用溅射功率为100~500 W的直流反应磁控溅射法制备出不同结构与特性的TiO2薄膜样品;采用原子力显微镜（AFM）、X线衍射仪（XRD）、傅里叶红外光谱（FTIR）和紫外可见光分光光度计对薄膜的
【基金项目】
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湖南省重大科技专项项目（08FJ1002）
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用溅射功率为100~500 W的直流反应磁控溅射法制备出不同结构与特性的TiO2薄膜样品;采用原子力显微镜（AFM）、X线衍射仪（XRD）、傅里叶红外光谱（FTIR）和紫外可见光分光光度计对薄膜的形貌、结构及光学特性进行表征;研究溅射功率对薄膜的结构、形貌及光学特性的影响。研究结果表明：沉积态薄膜均为无序结构,氧化物溅射模式下沉积的薄膜为透明状态,金属模式下沉积的薄膜不透明,TiO2薄膜的折射率随着溅射功率变化在1.8~2.3之间变化;在低功率制备的沉积态薄膜存在TiO0.5微晶,它使薄膜样品的透过率降低
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