光学高分子薄膜纳米结构与性能关系的探讨

来源 :微纳电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：LISA19861011

【摘要】

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应用AFM及力曲线的统计方法(force curve method)和Tapping/Phase功能,比较系统地研究了Glass/ITO基底上旋涂厚度为5μm的非线性光学功能高分子薄膜.结果发现,不同基底对于薄

【作者】

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朱传凤韩梅娟商广义万立骏沈玉全邱玲郝

【机构】

：

中国科学院化学研究所,中国科学院理化技术研究所

【出处】

：

微纳电子技术

【发表日期】

：

2005年6期

【关键词】

：

高分子薄膜性能关系纳米结构 Phase 统计方法光学功能客体分子带状结构微观结构非线性光学分子构象薄膜结构常温条件形成特征电场极化交联

【基金项目】

：

国家纳米科学中心资助项目，国家自然科学基金，国家高技术研究发展计划(863计划)

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应用AFM及力曲线的统计方法(force curve method)和Tapping/Phase功能,比较系统地研究了Glass/ITO基底上旋涂厚度为5μm的非线性光学功能高分子薄膜.结果发现,不同基底对于薄膜结构及分子构象没有明显影响.客体分子(molecule-2)在常温条件下能够以氢键的方式镶嵌在主体高分子(molecule-1)链上的-OH官能团周围和相邻的分子链间,形成特征的纳米级带状结构.ITO基底上非线性光学功能高分子薄膜在160～180℃条件下和经3000 V强电场极化后,客体分子和主体

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