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采用电弧离子镀方法在Al2O3陶瓷片上沉积Ti金属膜,并对成膜厚度的影响因素进行分析,沉积Ti金属膜合适的工艺参数为:电流70A,时间20min～30min,工件转速2 r/min～4 r/min.
Al2O3陶瓷片上沉积钛膜的研究
【摘 要】
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采用电弧离子镀方法在Al2O3陶瓷片上沉积Ti金属膜,并对成膜厚度的影响因素进行分析,沉积Ti金属膜合适的工艺参数为:电流70A,时间20min～30min,工件转速2 r/min～4 r/min.
【机 构】
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西北有色金属研究院
【出 处】
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稀有金属快报
【发表日期】
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2005年7期
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