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Sematech研究人员正致力于III-V族和SiGe等异质结半导体的研究工作。在2008年度VLSI技术论坛上,Sematech的科学家们发表了的三篇论文,文中他们介绍了对GaAs器件的应力技术以及SiGe晶体管的高介电常数（k）绝缘材料的研究成果。
Sematech在VLSI会议上报告最新进展
【摘 要】
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Sematech研究人员正致力于III-V族和SiGe等异质结半导体的研究工作。在2008年度VLSI技术论坛上,Sematech的科学家们发表了的三篇论文,文中他们介绍了对GaAs器件的应力技术以
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2008年9期
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