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光刻是半导体芯片制备过程中最为关键的一步,该技术所能实现的精度决定了芯片单位面积上集成晶体管的数目,也决定了芯片所能实现运算水平的高低。本文重点介绍了光刻技术的工作原理,光刻的分辨率及其影响因素,以及光刻机的发展史与格局,并对光刻技术今后的发展进行了前瞻。
半导体芯片制造过程中的关键─光刻技术
【摘 要】
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光刻是半导体芯片制备过程中最为关键的一步,该技术所能实现的精度决定了芯片单位面积上集成晶体管的数目,也决定了芯片所能实现运算水平的高低。本文重点介绍了光刻技术的工
【机 构】
：
南京市第九中学
【出 处】
：
数码设计
【发表日期】
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2019年7期
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