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利用光刻／离子束刻蚀制作大面阵硅微透镜阵列，采用ＳＥＭ和表面探针测试等手段分析所制样品的形貌特点，定性讨论制工艺的不同对所制器件的影响，所用为大面阵微尖阵列和微台阵列的离子束刻蚀制作奠定了基础。
微透镜制作中光刻胶与衬底匹配行为的研究
【摘 要】
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利用光刻／离子束刻蚀制作大面阵硅微透镜阵列，采用ＳＥＭ和表面探针测试等手段分析所制样品的形貌特点，定性讨论制工艺的不同对所制器件的影响，所用为大面阵微尖阵列和微台阵列的离子束
【机 构】
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华中理工大学光电子工程系
【出 处】
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光子学报
【发表日期】
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1998年1期
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