微透镜制作中光刻胶与衬底匹配行为的研究

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利用光刻/离子束刻蚀制作大面阵硅微透镜阵列,采用SEM和表面探针测试等手段分析所制样品的形貌特点,定性讨论制工艺的不同对所制器件的影响,所用为大面阵微尖阵列和微台阵列的离子束刻蚀制作奠定了基础。
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