软X射线投影光刻原理装置的设计

来源 :光学精密工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tianlong3311
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首先介绍了投影光刻技术发展的历程、趋势和软 X射线投影光刻技术的特性 ,其次介绍了软 X射线投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、镀有多层膜的 Schwarzchild微缩投影物镜、涂有光刻胶的硅片及相应的真空系统组成。 0 .1倍的 Schwarzchild微缩投影物镜具有小于 0 .2μm的分辨率 Firstly, the development history, trend and characteristics of soft X-ray projection lithography are introduced. Secondly, the research work on the principle of soft X-ray projection lithography is introduced. The device consists of a laser plasma source, a grazing incidence ellipsoid condenser lens, a transmission mask, a Schwarzchild miniature projection objective lens coated with a multilayer film, a photoresist coated silicon wafer and a corresponding vacuum system. The 0.1-fold Schwarzchild miniature projection objective has a resolution of less than 0.2 μm
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