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低温共烧多层AlN陶瓷基片
低温共烧多层AlN陶瓷基片
来源 :材料研究学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:JIABUTUO
【摘 要】
:
介绍由高热导率AlN陶瓷与金属W制备的低温共烧多层AlN基片,研究了以Dy2O3为主的添加系统对低温烧结AlN性能,显微结构的影响。
【作 者】
:
吴音
【机 构】
:
清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室
【出 处】
:
材料研究学报
【发表日期】
:
1998年2期
【关键词】
:
低温共烧
多层迭片
热导率
显微结构
氮化铝陶瓷
aluminum nitride
low temperature cofire
multilayer su
【基金项目】
:
国家自然科学基金!6939120-2
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介绍由高热导率AlN陶瓷与金属W制备的低温共烧多层AlN基片,研究了以Dy2O3为主的添加系统对低温烧结AlN性能,显微结构的影响。
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