氧化—还原挥发工艺从含锗电解铁中提锗

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考察了含锗电解铁粉经 HCl、H<sub>2</sub>SO<sub>4</sub>、H<sub>2</sub>O 处理自然氧化后,在氮气,空气,真空及强、弱还原气氛中锗的挥发性能。结果表明,在温度高于950℃的真空和弱还原性气氛中,锗能获得良好的挥发效果。而在同一温度下经不同介质处理自然氧化的铁粉,其锗的挥发效果顺序为 HCl】H<sub>2</sub>SO<sub>1</sub>】H
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