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期刊论文
激光直写系统中的对准技术应用研究
激光直写系统中的对准技术应用研究
来源 :光电工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gyf2033
【摘 要】
:
基于ISI-2802型激光直写系统原有基片的多图形对准方法,针对衍射光学元件(DOE)图形的特点,通过设计合理的对准标记、修改对准识别文件和实验,产生了一套适于DOE图形套刻的对准方案。其对准误差小
【作 者】
:
邱传凯
杜春雷
白临波
周崇喜
【机 构】
:
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
【出 处】
:
光电工程
【发表日期】
:
1997年S1期
【关键词】
:
衍射光学元件
激光光刻机
激光直写
精密定位
对准精度
Diffractive optical elements
Laser photoetching mach
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基于ISI-2802型激光直写系统原有基片的多图形对准方法,针对衍射光学元件(DOE)图形的特点,通过设计合理的对准标记、修改对准识别文件和实验,产生了一套适于DOE图形套刻的对准方案。其对准误差小,达到了系统规定指标。并实验研制出了16位相台阶的DOE,取得了良好的效果。
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