离子注入形成SIMOX与SIMNI结构的计算机模拟

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:popelrain2009
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本文报告了硅中注入大剂量O^+或N^+离子形成SIMOX或SIMNI的计算机模拟结果,分析了SIMOX与SIMNI形成的不同机制,在注氧形成SIMOX结构的计算机模拟程序的基础上发展了注氮形成SIMNI结果的动态模拟程序,实验与模拟结果符合很好,验证了现有的理论模型和程序所作的假设,多次注入与退火会减小SIMOX上层硅厚度,而增大SIMNI的上层硅厚度,低能注入可以获得良好的SOI材料,而且可以降
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