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用射频等离子体辅助化学气相沉积技术制备了ＢＮ膜，对以Ａｒ＋１０％Ｈ２（体系分数），Ｈ２和Ｎ２气为载气沉积的膜，进行了ＦＴＩＲ，ＴＥＭ，ＳＥＭ等分析，比较了不同载气下膜层的立方氮化硼含量，膜基结合力，膜层残余应力，硬度和耐磨性，对立方氮化硼的形成机制进行了探讨。
气相沉积BN膜的性能及形成机制的研究
【摘 要】
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用射频等离子体辅助化学气相沉积技术制备了ＢＮ膜，对以Ａｒ＋１０％Ｈ２（体系分数），Ｈ２和Ｎ２气为载气沉积的膜，进行了ＦＴＩＲ，ＴＥＭ，ＳＥＭ等分析，比较了不同载气下膜层的立方氮化硼含量，膜基结合力，膜层残余应力，硬度和耐磨性，对立方
【机 构】
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西安交通大学金属材料强度国家重点实验室
【出 处】
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硅酸盐学报
【发表日期】
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1999年3期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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