【摘 要】
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原子单位的腐蚀技术据日本《学会志》１９９４年第６期报道，日本ＮＥＣ基础研究所已研制成半导体制造工艺的重要技术──用１个原子单位进行腐蚀的技术。在腐蚀实验中，首先把Ｃｌ气“吹”到Ｓｉ单晶表面，在
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原子单位的腐蚀技术据日本《学会志》１９９４年第６期报道，日本ＮＥＣ基础研究所已研制成半导体制造工艺的重要技术──用１个原子单位进行腐蚀的技术。在腐蚀实验中，首先把Ｃｌ气“吹”到Ｓｉ单晶表面，在超高真空中，把扫描隧道显微镜（ＳＴＭ）的针尖接触到１ｎｍ，...
Atomic units of corrosion technology According to Japan, “Institute of Journal” No. 6, 1994 reported that Japan’s NEC Institute for Basic Research has developed into the semiconductor manufacturing process of the important technology ─ ─ 1 atomic units of corrosion technology. In the corrosive experiment, Cl gas is first “blown” onto the Si single crystal surface, and the tip of the scanning tunneling microscope (STM) is exposed to 1 nm in an ultrahigh vacuum.
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