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磁控溅射技术及其发展
磁控溅射技术及其发展
来源 :真空电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lzayy9
【摘 要】
:
磁控溅射技术可制备超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜,以及各种具有特殊功能的薄膜,在工业薄膜制备领域的应用非常广泛。本文着重介绍了磁控溅射技术原
【作 者】
:
李芬
朱颖
李刘合
卢求元
朱剑豪
【机 构】
:
北京航空航天大学机械工程及自动化学院,香港城市大学应用物理及材料系
【出 处】
:
真空电子技术
【发表日期】
:
2011年03期
【关键词】
:
薄膜制备
磁控溅射
平衡磁控溅射
非平衡磁控溅射
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磁控溅射技术可制备超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜,以及各种具有特殊功能的薄膜,在工业薄膜制备领域的应用非常广泛。本文着重介绍了磁控溅射技术原理、特点、磁控溅射技术的发展史及其发展趋势。
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