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氧处理对氮氧化膜界面特性和组分的影响
氧处理对氮氧化膜界面特性和组分的影响
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qianglongzx
【摘 要】
:
实验结果表明,利用O2/N2的低分压再氧化和中间氧化,以及利用O2/NH3的掺氧再氮化均能有效地改善氮氧化膜的界面特性,而其优异的电击穿特性则得以保持或稍有改善。在三种氧处理
【作 者】
:
李观启
黄美浅
【机 构】
:
华南理工大学物理系,华南理工大学物理系广州,广州,广州
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
1990年11期
【关键词】
:
氮氧化膜
界面态
氧处理
组分
Oxide
Nitride
Interface state
Defect
Breakdown voltage
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实验结果表明,利用O2/N2的低分压再氧化和中间氧化,以及利用O2/NH3的掺氧再氮化均能有效地改善氮氧化膜的界面特性,而其优异的电击穿特性则得以保持或稍有改善。在三种氧处理方法中,中间氧化的效果较显著,而掺氧再氮化则呈现较低的抗氧化能力。
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