【摘 要】
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针对射流抛光的射流束发散与冲击的问题,提出强约束磨粒射流抛光方法。该方法通过抛光工具头强制约束原本松散的磨粒流沿工件表面切向高速流出。形成一种"表面射流",达到抛光
【机 构】
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浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(51305399),浙江省科技厅创新团队项目(2011R50011-05)
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针对射流抛光的射流束发散与冲击的问题,提出强约束磨粒射流抛光方法。该方法通过抛光工具头强制约束原本松散的磨粒流沿工件表面切向高速流出。形成一种"表面射流",达到抛光加工的目的。建立了强约束磨粒射流抛光过程的仿真模型。仿真与PIV实验结果表明,该方法有确定的材料去除模型。通过数控编程与误差补偿可达到确定性抛光的目的。与传统磨粒射流抛光相比,大大提高了对能量的利用效率和工件表面质量。针对典型的硬脆材料石英玻璃进行了抛光实验,实验结果表明该方法主要利用磨粒流的剪切作用达到抛光的目的,抛光效率
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