【摘 要】
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采用化学气相沉积的方法制备TiN薄膜,以提高K3镍基高温合金的耐磨性能。以TiCl4和NH3为反应气体,用化学气相沉积法（CVD）在K3镍基高温合金基体上制备了一系列不同温度和沉积时间
【机 构】
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北京航空航天大学材料科学与工程学院
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采用化学气相沉积的方法制备TiN薄膜,以提高K3镍基高温合金的耐磨性能。以TiCl4和NH3为反应气体,用化学气相沉积法（CVD）在K3镍基高温合金基体上制备了一系列不同温度和沉积时间的TiN薄膜。结果表明,与基体相比,沉积TiN薄膜的样品耐磨性能有显著提高。当沉积温度不变时,TiN薄膜耐磨性能随沉积时间的延长先提高后降低;当沉积时间不变时,薄膜的耐磨性能随沉积温度的升高而提高。化学气相沉积法制备TiN薄膜的最佳工艺条件为600℃/60min。
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