IEDM重装上阵Ⅱ——用MEMS工艺制作高性能的片上电感

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【摘要】

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中国大陆对IEDM　2006的另一个贡献来自于中国科学院上海微系统与信息技术研究所的李昕欣小组。他们的论文标题很长，＂A Post-CMOS Concave-Suspending MEMS Process in Standar

【作者】

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汪辉

【机构】

：

《半导体国际》技术顾问

【出处】

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集成电路应用

【发表日期】

：

2007年3期

【关键词】

：

MEMS工艺工艺制作片上电感 IEDM 性能 CMOS工艺 Silicon 重装

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中国大陆对IEDM　2006的另一个贡献来自于中国科学院上海微系统与信息技术研究所的李昕欣小组。他们的论文标题很长，＂A Post-CMOS Concave-Suspending MEMS Process in Standard Silicon Wafers for High- Performance SolenoidaI-DNA-Configured Micro-Transformers＂（用后CMOS的MEMS凹悬工艺制作DNA螺旋状的高性能片上微互感器）。2004年．他们将CMOS工艺（STI）用于

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