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采用PECVD工艺,在300℃下在50μm厚的Kapton E高分子塑料片上制备了底栅结构a-Si∶H TFT阵列（20×20）。用傅里叶变换红外光谱仪表征了a-Si∶H薄膜的结构,用二探针法和四探针法分别表征了a-Si∶H薄膜和n＋a-Si∶H薄膜的电导率。a-Si∶H薄膜中的H（原子数分数）约为15.6%,H主要以Si H和Si H2基团的形式存在,其电导率为8.2×10^-78.8×10^-6S/cm;n＋a-Si∶H薄膜的电导率为3.8×10^-3S/cm。