【摘 要】
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对比在控氧条件下制备态和退火态In2O3薄膜的微观结构和光电性能,分析两种状态中不同的氧作用机制.两种控氧行为都能够有效提高In2O3薄膜的晶格有序度和降低氧空位浓度,使其
【机 构】
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辽宁科技大学材料与冶金学院 鞍山114051;鞍钢股份质检计量中心 鞍山114000
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对比在控氧条件下制备态和退火态In2O3薄膜的微观结构和光电性能,分析两种状态中不同的氧作用机制.两种控氧行为都能够有效提高In2O3薄膜的晶格有序度和降低氧空位浓度,使其载流子浓度下降、迁移率提高和光学带隙变窄;等离子体制备过程中氧以高活性非平衡方式注入晶格,而退火时氧以低活性平衡态扩散的方式进入晶格;不同的氧作用机制使得退火态薄膜比制备态薄膜具有更少的结构缺陷、更高的氧空位浓度和更佳的透光导电性.
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