论文部分内容阅读
用磁控溅射法在K9玻璃上沉积了非晶硅(a—Si)膜和a—Si/Al膜,并将其在流动的N2气氛下进行退火。对退火前后的样品进行Raman光谱、XRD和SEM表征和分析。Raman光谱表明随着退火温度的升高,a-Si膜的散射峰出现了明显的蓝移,但XRD结果表明薄膜仍为非晶态;而a—Si/Al膜在温度很低时就已经开始晶化。