论文部分内容阅读
为制备高纵横比的纳米硅尖，研究了掩模的偏转方向对硅尖形状的影响。设计了硅尖制备的工艺流程，采用KOH溶液湿法各向异性腐蚀（100）单晶硅的方法制备硅尖，根据实验结果和{411}晶面模型，分析了硅尖侧壁的组成晶面，讨论了掩模偏转方向对硅尖形状的影响，得到了制备高纵横比纳米硅尖的工艺参数。实验结果表明：当腐蚀溶液浓度和温度一定时，正方形掩模的方向并不影响快腐蚀晶面的类型，利用正方形掩模的偏转，可以制备出八面体和四面体的硅尖。当正方形掩模边缘沿（110）晶向时，在78℃、浓度为40％的KOH溶液中腐蚀硅尖，经9