真空弧源沉积类金刚石薄膜及其性能研究

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采用真空弧源沉积技术在钛合金及Si(100)表面合成DLC薄膜,通入不同的氩气,控制DLC薄膜中的SP3/SP2比值.研究表明,薄膜硬度可达96GPa,随着氩气流量的增加,薄膜的硬度先增加,后有明显降低.随着氩气流量的增加,类金刚石薄膜中,SP2键增加,SP3键减少,而血液相容性明显提高.DLC薄膜具有优异的耐磨性,摩擦系数低,与钛合金基体结合牢固.
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