【摘 要】
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采用反应性磁控溅射法制备了NiOx薄膜,并结合椭圆偏振仪、XRD和XPS研究了溅射参量对其光学常量的影响.NiOx薄膜的光学常量随着O2/Ar流量比的增大而减小;热退火后,折射率增大
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所,华东师范大学电子工程系,
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采用反应性磁控溅射法制备了NiOx薄膜,并结合椭圆偏振仪、XRD和XPS研究了溅射参量对其光学常量的影响.NiOx薄膜的光学常量随着O2/Ar流量比的增大而减小;热退火后,折射率增大而消光系数下降了50%;溅射功率越大折射率也越大,而工作气压越大折射率反而越小.这些变化分别与薄膜中存在间隙O和Ni空位、NiOx分解以及NiOx薄膜的致密度有关.
NiOx thin films were prepared by reactive magnetron sputtering and the influence of sputtering parameters on their optical constants was investigated by ellipsometry, XRD and XPS.The optical constants of NiOx thin films increased with the increase of O2 / Ar ratio Decreases, the thermal refractive index increases and the extinction coefficient decreases by 50%, the larger the sputtering power is, the larger the refractive index is, and the larger the working pressure is, the smaller the refractive index is. These changes correspond to the gaps O And Ni vacancy, NiOx decomposition and the density of NiOx film.
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