【摘 要】
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用高能离子非卢瑟福背散射分析和前向反冲分析方法研究了C、O污染对Ti膜的吸放氢能力的影响。实验观测到 ,1 2 6× 1 0 16cm-2 C和 2 6× 1 0 16cm-2 O的双重污染可使Ti
【机 构】
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用高能离子非卢瑟福背散射分析和前向反冲分析方法研究了C、O污染对Ti膜的吸放氢能力的影响。实验观测到 ,1 2 6× 1 0 16cm-2 C和 2 6× 1 0 16cm-2 O的双重污染可使Ti膜在 3 0 0nm的范围内存在着低的H浓度区 ,使氢的热释放温度大大提高。表面镀Ni可显著增强Ti膜的吸放氢能力 ,使H在Ti膜中均匀地饱和分布 ,同时 ,将H的热释放温度降到了热力学分解温度附近。
The influence of C and O pollution on the hydrogen absorption and desorption capacity of Ti film was studied by backscattering of non-Rutherford ions and forward backscattering analysis. It has been observed experimentally that the double pollution of 1 2 6 × 1016cm-2 C and 2 6 × 10 16cm-2 O can cause the Ti film to have a low H concentration region in the range of 3000 nm, Release temperature greatly increased. The Ni plating on the surface can significantly enhance the hydrogen absorption and desorption ability of Ti film and make H uniformly and uniformly distributed in the Ti film. Meanwhile, the heat release temperature of H is reduced to near the thermodynamic decomposition temperature.
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