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期刊论文
甲硅烷常压CVD淀积非晶硅研究
甲硅烷常压CVD淀积非晶硅研究
来源 :华中理工大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qisucha
【摘 要】
:
本文讨论了以甲硅烷为源,用常压CVD法(APCVD)制备非晶硅的设备改进及工艺优化,提供了一些实验结果.文中着重分析了CVD过程,讨论了在较低温度下获得高淀积速率的原因.
【作 者】
:
王敬义
何笑明
王宇
王永兴
【机 构】
:
华中理工大学固体电子学系,武汉工业大学
【出 处】
:
华中理工大学学报
【发表日期】
:
1991年2期
【关键词】
:
非晶硅
甲硅烷
APCVD
淀积
热扩散
: APCVD
Amorphous silicon
Silane
Deposition rate
Therma
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本文讨论了以甲硅烷为源,用常压CVD法(APCVD)制备非晶硅的设备改进及工艺优化,提供了一些实验结果.文中着重分析了CVD过程,讨论了在较低温度下获得高淀积速率的原因.
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