NiAl2O4材料的X射线光电子能谱分析

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多晶半导体陶瓷材料 NiAl2O4是一种很有应用价值的高温热敏材料.本文介绍了这种材料的合成方法,并用XRD 技术分析该材料在不同合成温度下的相态及晶体结构.结果表明:合成物主晶相为尖晶石型 Ni1-xAl2O4,次晶相为 NiO,且随合成温度的提高,NiO 含量大幅度减少.本文根据 XPS 分析结果,重点讨论了样品中各元素在不同合成温度下的结合能位移.分析表明:Ni1-xAl2O4中存在有 Ni 空位,随着合成温度的提高,Ni 空位含量减少.
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